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光學檢測/分析儀器光電應用工具激光安全與防護
激光功率控制系統(tǒng) CLAMIR

激光功率控制系統(tǒng) CLAMIR

時間:2025-08-18 類別:光學檢測/分析儀器 關(guān)注:58

CLAMIR閉環(huán)激光控制系統(tǒng),精準熔池監(jiān)測,重塑增材制造質(zhì)量與能效

CLAMIR是專為激光熔覆(Cladding)和激光金屬沉積(LMD/DED)工藝設計的閉環(huán)激光功率控制系統(tǒng)。通過實時紅外成像(64x64像素,1000幀/秒)監(jiān)測熔池幾何尺寸,動態(tài)調(diào)節(jié)激光功率(0-10VDC),有效防止工件過熱并降低稀釋率>40%。系統(tǒng)兼容鋼/鎳基合金等粉末,集成IP65防護緊湊機身(88×69×42.5mm),支持自動/手動雙模式。應用CLAMIR可提升工藝穩(wěn)定性,減少60%材料浪費,降低50%能耗,顯著提升生產(chǎn)良率與可持續(xù)性。

我們一站式供應各種類型的紅外成像監(jiān)測系統(tǒng),閉環(huán)激光控制系統(tǒng),激光熔覆,增材制造質(zhì)量控制,可提供選型、技術(shù)指導、安裝培訓、個性定制等全生命周期、全流程服務,歡迎聯(lián)系我們!

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    激光功率控制系統(tǒng)

用于熔覆 (Cladding) 和激光金屬沉積 (LMD)/直接能量沉積 (DED) 工藝的閉環(huán)激光功率控制系統(tǒng)。

通過連續(xù)監(jiān)測和控制熔池幾何形狀。

  • 確保質(zhì)量和可重復性。

  • 兼容大多數(shù)激光頭和粉末。

  • 易于機械集成。

  • 快速配置。

  • 有助于減少 CO2排放。

    激光功率控制系統(tǒng)

CLAMIR:用于 LMD/DED 工藝

對激光的連續(xù)控制可防止加工過程中零件過熱,并實現(xiàn)連續(xù)、高質(zhì)量的制造過程。

使用 CLAMIR 可降低零件缺陷率,節(jié)省高達 60% 的材料,并將能耗減半。

CLAMIR:用于熔覆工藝

減少因激光功率過高而對基材造成的損傷。(平均稀釋率降低:>40%)

允許連續(xù)加工,提高生產(chǎn)率。

CLAMIR ON

  • 激光功率通過熔池的紅外圖像進行實時閉環(huán)控制。

  • 帶進水/出水接口的水冷模塊

  • 多功能 I/O 接口

  • 帶鎖緊反螺紋的鏡頭

  • C 接口螺紋

  • GigE (千兆以太網(wǎng)) 接口

  • 60 毫米 (圖示尺寸)

  • 多種光學配置可選

    激光功率控制系統(tǒng)

主要規(guī)格

型號CLAMIR
系統(tǒng)運行連續(xù)熔池測量
精確的激光功率閉環(huán)控制
機械集成同軸光學系統(tǒng)監(jiān)測熔池幾何形狀
通過激光頭上的現(xiàn)有光學端口集成
配置軟件友好的用戶界面
易于設置
光學兼容性激光頭光路需要紅外透射 (>11 μm) *
工藝兼容性激光金屬沉積 / 激光熔覆 
軌跡加工或連續(xù)加工 
系統(tǒng)特點緊湊系統(tǒng) – 嵌入式處理器和控制單元
熔池寬度、激光功率 、紅外圖像 、激光狀態(tài)
組件帶嵌入式實時處理電子元件和接口的傳感器頭, 成像鏡頭, 系統(tǒng)配置軟件, 用于初始對焦和光學校準的紅外發(fā)射器
材料兼容性鋼粉、不銹鋼粉、司太立合金粉、因科鎳合金等
激光功率控制模擬信號控制,0 VDC - 10 VDC
尺寸/重量88 mm x 69 mm x 42.5 mm
0.5 kg (不含接線盒)
電源24 VDC, 6W
成像鏡頭根據(jù)客戶的規(guī)格和需求定制。提供多種光學配置。
機械外殼IP65
嵌入式散熱器
嵌入式水冷模塊,用于空氣/水冷卻
機械接口多種適配器可選
紅外相機VPD PbSe 相機
64x64 像素
50 微米
中波紅外 (MWIR) 1–5 μm
1000 幀/秒
通信接口千兆以太網(wǎng) (RJ-45)
軟件CLAMR 控制軟件 v2.31 (兼容 Windows 10, 32 和 64 位)
CLAMR 采集與配置軟件 v2.31, NIT 可視化軟件 v2.3.0
最低要求 (PC)i5、8 GB、1GB
Windows 10 或更高版本 (32/64 位)
過程控制自動、手動 
過程配置軌跡 、連續(xù)
初始激光功率
軌跡長度 (僅軌跡模式下)
其他功能2x 數(shù)字輸入, 2x 數(shù)字輸出 (多功能)
過程數(shù)據(jù)記錄
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