衍射光學(xué)元件（DOE）的激光損傷閾值（LIDT/LDT）是指其在激光輻照下不發(fā)生永久性損傷的最高能量或功率密度，是評(píng)估其高功率適用性的核心參數(shù)。

衍射光學(xué)元件是在光學(xué)元件表面雕刻浮雕圖案，使得入射激光束的相位發(fā)生改變以使出射光束在遠(yuǎn)場(chǎng)或透鏡聚焦平面處產(chǎn)生期望的強(qiáng)度分布。二級(jí)的衍射光學(xué)元件的典型效率為75％，四級(jí)或更高級(jí)的設(shè)計(jì)，其效率高達(dá)95％。一般而言，使用的層次越多，效率越高，零級(jí)次越低。但是，級(jí)次越高的元件制造過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生制約因素。

衍射光學(xué)元件可以分為兩大類(lèi)：光束整形和光束分束。

標(biāo)準(zhǔn)雙光點(diǎn)（a）和高效雙光點(diǎn)（b）的比較。

標(biāo)準(zhǔn)四光點(diǎn)（a）和高效四光點(diǎn)（b）的比較。

一、損傷機(jī)制與激光參數(shù)的關(guān)系

激光的波長(zhǎng)、脈寬和重復(fù)頻率直接影響損傷的物理過(guò)程：

1. 超短脈沖（<0.5 ns）：以介電擊穿和雪崩電離為主，瞬時(shí)高場(chǎng)強(qiáng)導(dǎo)致材料離子化。

2. 納秒脈沖（0.5–100 ns）：熱效應(yīng)與雪崩電離共同作用，能量累積引發(fā)局部熔融或裂紋。

3. 連續(xù)波（CW）：熱效應(yīng)主導(dǎo)，材料因持續(xù)升溫發(fā)生化學(xué)降解或熱應(yīng)力斷裂。

注：高重復(fù)頻率脈沖（如800 kHz）可能疊加熱效應(yīng)，類(lèi)似CW機(jī)制。

二、影響損傷閾值的關(guān)鍵因素

1、材料與工藝

• 基材選擇：熔融石英（高光學(xué)質(zhì)量、表面粗糙度20-10 Scratch-Dig）、硒化鋅（ZnSe）、藍(lán)寶石等高LIDT材料。

• 鍍膜層：抗反射（AR）鍍膜可降低表面反射，但鍍膜污染或缺陷（如雜質(zhì)）會(huì)顯著降低LIDT。雙面鍍膜DOE的LIDT比未鍍膜低<10%，差異有限    。

• 潔凈制造：在無(wú)塵環(huán)境中生產(chǎn)，避免微缺陷（如劃痕、顆粒）。

2、使用環(huán)境

• 熱恢復(fù)周期、清潔方式（如溶劑選擇）及機(jī)械應(yīng)力均影響實(shí)際閾值。

三、典型DOE的損傷閾值數(shù)據(jù)

以下為實(shí)驗(yàn)測(cè)得的LIDT范圍（因測(cè)試條件差異，數(shù)據(jù)僅供參考）：

• 脈寬越短，閾值通常越高（因能量沉積時(shí)間短）。

• 偏振態(tài)對(duì)LCPG的LIDT影響較小（左/右旋圓偏振閾值差<6%）。

• doi: 10.3788/HPLPB20122405.109

四、提升損傷閾值的技術(shù)途徑

設(shè)計(jì)優(yōu)化

• 減少衍射級(jí)次：如高效分束器（97%效率）通過(guò)子孔徑設(shè)計(jì)降低雜散光5。

• 抑制零級(jí)衍射：采用三相位層級(jí)設(shè)計(jì)或添加微棱鏡/透鏡，減少未衍射能量導(dǎo)致的局部熱點(diǎn)。

• 制造工藝改進(jìn)

• 干法等離子蝕刻：精確控制微結(jié)構(gòu)深度，減少公差累積（多級(jí)元件效率可達(dá)95%）。

• 隨機(jī)陣列設(shè)計(jì)（RADA）：提升對(duì)準(zhǔn)容差，避免二元光學(xué)元件的對(duì)稱(chēng)敏感性問(wèn)題。

• 測(cè)試方法創(chuàng)新

• 局部通量映射技術(shù)：通過(guò)單次照射獲取光斑非均勻分布下的損傷密度-通量關(guān)系，替代傳統(tǒng)均勻光斑要求

五、測(cè)試方法與標(biāo)準(zhǔn)化

損傷判定：通過(guò)顯微鏡觀察表面變色、裂紋或坑洞（如SEM圖像顯示LCPG損傷位于基底界面）。

測(cè)試流程：

• 階梯式遞增功率，每個(gè)點(diǎn)位照射30秒，間隔5秒

• 統(tǒng)計(jì)未損傷的最高功率與首次損傷功率，確定閾值范圍。

挑戰(zhàn)：破壞性測(cè)試無(wú)法預(yù)知單件元件的實(shí)際閾值，需依賴工藝一致性樣本推斷

結(jié)論

DOE的激光損傷閾值取決于材料特性（基材純度、鍍膜質(zhì)量）、激光參數(shù)（脈寬、波長(zhǎng)）及設(shè)計(jì)優(yōu)化（結(jié)構(gòu)抗熱、雜散光抑制）。在定向能武器、工業(yè)加工等高功率場(chǎng)景中，優(yōu)先選擇熔融石英/硒化鋅基材、AR鍍膜及低零級(jí)設(shè)計(jì)的DOE，并結(jié)合非均勻光斑測(cè)試方法驗(yàn)證閾值。制造端需嚴(yán)格管控缺陷，用戶端則需規(guī)范清潔與熱管理流程以維持實(shí)際LIDT接近理論值。




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